一、?用途和特性：

1、?所獲得鎳鍍層含硫量為0.03%-0.05%，適宜于二層或多層鍍鎳耐蝕要求高的鍍覆，也適用于鍍鉻、青銅、金、銀金屬之光亮鎳之底層。

2、?所獲得鎳鍍層具有鏡面似的白亮光澤。

3、?消耗少，出光快。鍍液穩(wěn)定，鍍層致密，鍍鉻被覆蓋力強。

二、?溶液組成和操作條件：

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三、?使用說明：

1、?溶液配制：

（1）?預備缸里加入約60%的純凈水，加熱至50-65℃，按序加入硼酸、硫酸鎳、氯化鎳攪拌均勻使其徹底溶解。

（2）?如果原材料質量欠佳，應加入1-2毫升/升雙氧水（稀釋后），活性碳2-5克/升，升溫至60-70℃，攪拌3-5小時，靜置沉淀。如果是優(yōu)質鎳鹽和硼酸，則可不必用雙氧水，活性碳處理。

（3）?過濾至鍍缸，加入上述之計量添加劑，調整液量。

（4）?調整PH值，若低以碳酸鎳升高，反之則以稀硫酸降低。

（5）?以0.2-0.4 A/dm2）電解處理約2-3小時，即可試鍍。

2、?添加劑的作用和補充：

（1）?B-80光亮劑：作用是提高鍍層的光亮和整平性能，其消耗量為90-120毫升/千安培小時

（2）?B-80柔軟劑：作用是改善鍍層的柔軟性能，并有一定的光亮和走位作用。消耗量為150-250毫升/千安培小時。

（3）?B-80濕潤劑：作用是改善鍍層濕潤狀況，以減免氫氣在鍍層上的滯留。根據工件帶出情況適量補充。

（4）?添加劑的消耗取決于：工件基材表面狀態(tài)、所要求鍍層的光亮度和填平度、平均陰極電流密度、帶出損耗。

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3、?注意事項：

（1）?從半光亮鎳或其它休系光亮鎳轉換到B-80光亮鎳鍍液時，原液的成分，污染度等會有差異。等敝公司試驗確認后，轉缸的適當條件、方法聯系貴公司。

（2）?主鹽成分應以化驗數據為依據，添加劑宜以赫氏槽試驗結果，采取定時勤加少加方式進行。

（3）?不時弱電解處理，以期除去Cu2+、Zn2+、Fe3+等金屬雜質。

（4）?定期大處理，否則應以活性碳實行連續(xù)過濾。

4、其它：

?（1）除雜水

??當電鍍鋅基鑄件或塑膠電鍍時，可能會帶入較多銅鋅雜質。請適當加入除雜水，加入量為1-2ml/L，1ml/L的除雜水可絡合5ppm銅和10ppm鋅。

?（2）除鐵粉

??當電鍍鐵件時，通常鍍液中鐵雜質較多，此時可加入除鐵粉，一般而言，加入0.5g/L的除鐵粉可除去120ppm鐵雜質。

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